"ȸ¿ø"´ÔÀÇ ¼º°øÀ» À§ÇØ ÃÖ¼±À» ´ÙÇÏ°Ú½À´Ï´Ù.
ÀÎÁõȸ¿ø»ç´Â 'ÀϹÝȸ¿ø»çÀÇ ¸ðµçÇýÅÃ'ÀÌ ±âº»À¸·Î ÁÖ¾îÁý´Ï´Ù.
|
ÀÎÁõȸ¿ø»ç´Â »ê¾÷Áö´ÉÈÀÎÁõÀ» ¹ÞÀº ±â¾÷µéÀ» ´ë»óÀ¸·Î ÇÕ´Ï´Ù.
|
ÀÎÁõȸ¿ø»ç´Â ÀÎÁõ±â¾÷ È«º¸Áö¿øÀÌ Ãß°¡ Áö¿øµË´Ï´Ù.
|
Á¤ºÎ¿ë¿ª»ç¾÷½Ã È°¿ë °¡»êÁ¡ ºÎ¿©
(½ÃÇ輺Àû¼ ±â¹Ý)ÅõÀÚ R&D ±â¼ú ÀÌÀü½Ã È°¿ë
±â¾÷Æí¶÷ Ưº° Áö¸é ÇÒ¾Ö
ºñÁî´Ï½º ±³·ù¹æ ÃÊ´ë
ÀÎÀçä¿ë ¸ÅĪ
(ä¿ë¹Ú¶÷ȸ)AI EXPO ±¹Á¦ÀΰøÁö´É´ëÀü ÇÒÀÎ Áö¿ø
¾ð·ÐÈ«º¸
(ÀΰøÁö´É½Å¹®°ú ¿¬°èµÈ È«º¸)ÇØ¿ÜÁøÃâ»ç¾÷Áö¿ø
(AI EXPO ÄÚÆ®¶ó Áö¿ø)ÅõÀÚ¿¬°è
(IR´ëȸ : ¿ì¼ö±â¾÷ °úÇбâ¼úÁ¤º¸Åë½ÅºÎ »óÀå ºÎ¿©)°¢Á¾ ÇÁ·Î¸ð¼Ç Áö¿ø
(»êÇп¬ ±³·ù)¼ö¿ä»ç¡¤°ø±Þ»ç Á¤±â ¸ÅĪ »ó´ãȸ Áö¿ø
±Û·Î¹ú ´ë±â¾÷ ¸¶ÄÏÇ÷¹À̽º µîÀç ¼±¹ß
¿Â¶óÀÎ ±¤°í °ÔÀç ±ÇÇÑ ºÎ¿©
½ÅûÇϱâ